Heinrich Christoph NEITZERT | Pubblicazioni
Heinrich Christoph NEITZERT Pubblicazioni
1993 | |
Articolo in rivista | |
Comparison of lifetime measurements from the Zerbst and the dispersion techniques JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY. Vol. 140. Pag.2323-2327 ISSN:0013-4651. | |
E., Klausmann; W. R., Fahrner; S., Löffler; Neitzert, Heinrich Christoph | |
Codice identificativo ISI: WOS:A1993LR29600038 Codice identificativo SCOPUS: 2-s2.0-0027642111 | |
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1993 | |
Articolo in rivista | |
Evaluation of the wavefunction coherence length in a waveguiding structure embedding an InGaAs/InP short-period superlattice SUPERLATTICES AND MICROSTRUCTURES. Vol. 14. Pag.253-256 ISSN:0749-6036. | |
D., Campi; C., Cacciatore; Neitzert, Heinrich Christoph; C., Rigo; C., Coriasso | |
Codice identificativo SCOPUS: 2-s2.0-0004836957 | |
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1993 | |
Articolo in rivista | |
Transfer of excess charge carriers in an a-Si:H/crystalline-silicon heterojunction measured during the growth of the amorphous silicon layer PHYSICAL REVIEW. B, CONDENSED MATTER. Vol. 48. Pag.4481-4486 ISSN:0163-1829. | |
Neitzert, Heinrich Christoph; W., Hirsch; M., Kunst | |
Codice identificativo ISI: WOS:A1993LW02600032 Codice identificativo SCOPUS: 2-s2.0-29344474583 | |
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1993 | |
Articolo in rivista | |
In-situ process evaluation during hydrogen plasma etching of a-Si:H films by microwave detected transient photoconductivity measurements JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. Vol. 73. Pag.7446-7452 ISSN:0021-8979. | |
Neitzert, Heinrich Christoph; W., Hirsch; M., Kunst | |
Codice identificativo ISI: WOS:A1993LE95200065 Codice identificativo SCOPUS: 2-s2.0-5244259785 | |
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1993 | |
Articolo in rivista | |
Carrier transport in a-Si:H / a-Si:N and a-Si:H / a-Si:C multilayers JOURNAL OF NON-CRYSTALLINE SOLIDS. Vol. 164-166. Pag.837-840 ISSN:0022-3093. | |
J. B., Chevrier; R., Vanderhaghen; C., Swiatkowski; Neitzert, Heinrich Christoph; M., Kunst | |
Codice identificativo ISI: WOS:A1993MT78200046 Codice identificativo SCOPUS: 2-s2.0-0027906836 | |
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1993 | |
Articolo in rivista | |
Structural changes of a-Si:H films on crystalline silicon substrates during deposition PHYSICAL REVIEW. B, CONDENSED MATTER. Vol. 47. Pag.4080-4083 ISSN:0163-1829. | |
Neitzert, Heinrich Christoph; W., Hirsch; M., Kunst | |
Codice identificativo ISI: WOS:A1993KP08600093 Codice identificativo SCOPUS: 2-s2.0-4243386007 | |
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